Profibus压力发射器

压力范围: 0 bar - 160 bar

SITRANS P410是数码相机压力发射机具有综合诊断功能。它补充了现有的P DS III作为一个“高性能”版本，增加了0.04的测量精度…

压力范围: 0 bar - 700 bar

SITRANS P DSIII链由电子组成压力发射器用于计算轨距压力,总压力，压力差异，流和……

应用领域:过程工程化工化工化工食品饮料工业机械制造及厂房建设特点:测量精度高可自由伸缩测量量程。

过程的温度-40°c - 85°c
压力范围: 0 bar - 40 bar

．.．长期稳定。微分法的应用压力发射机工艺工程制药、食品和饮料行业的特殊特点压力．.．

压力范围: 0 bar - 4000 bar

．.．符合FDT(现场设备工具)的概念，如PACTware描述及其4…20 mA, 4…20 mA HART®，现场总线®PA或FOUNDATION现场总线™输出信号，结合本质安全性或隔爆性…

过程的温度-40°c - 80°c
压力范围: 0 bar - 16 bar

．.．通用的微分压力发射机用于液体、气体和蒸汽的测量。典型的应用领域是加压容器中的液位测量以及组合流量测量。

压力范围: 100mbar ~ 1,000,000 mbar

．.．微分压力测量-也在封闭容器中。的压力该装置具有压阻性或应变式金属膜片。根据测量单元的不同压力．.．

过程的温度-40°c - 100°c
压力范围: -1巴- 100巴
精度: 0.1%

．.．»不锈钢电子外壳压力发射机准确测量量规压力并传输成比例的4到20毫安信号。的发射机．.．

过程的温度-40°c - 85°c
压力范围: 0 bar - 30 bar
精度: 0.2%

．.．钢制电子外壳ProcessX绝对压力发射机(直接安装型)精确测量绝对压力并传输成比例的4到20毫安信号。…

过程的温度-40°c - 100°c
压力范围: -1 bar - 500 bar
精度: 0.07%

．.．»不锈钢电子外壳压力发射机准确测量量规压力并传输成比例的4至20毫安信号。…

过程的温度-30°c - 400°c
压力范围: 0 Pa - 6000 Pa
精度: 0.08%

高稳定性单晶硅压力发射机具有标准的dp风格设计。4 .…20 mA, 4…20马哈特，现场总线PA或FOUNDATION现场总线输出信号…

过程的温度-40°c - 125°c
压力范围: 0.1 Pa - 40,000,000 Pa
精度: 0.75 %

单晶硅压力发射机4 .…20 mA, 4…20马哈特，现场总线PA或FOUNDATION现场总线输出信号，结合本安或隔爆…

过程的温度-30°c - 400°c
压力范围: 0 bar - 689.47 bar
精度: 0.08%

HK71直列电容压力发射器计量和绝对的行业标准是吗压力测量。内嵌式，紧凑的设计允许发射机．.．

压力范围: 0 bar - 16 bar

聪明的微分压力发射机APR-2000 ALW -4…20ma输出信号+ HART 5 / HART 7协议(特殊版本:0…20ma或0…5ma输出信号+ HART 5协议)-背光显示-安全…

过程的温度-40°c - 120°c
压力范围: 10,000 psi
精度: 0.1%

．.．EJA310E是我们传统的绝对安装压力发射机在这个系列中。EJA310E标准功能包括:90 ms响应时间Exida和TUV SIL 2/3认证3600 psia最大…

过程的温度-40°c - 85°c
压力范围: 420巴
精度: 0.05%

Deltabar PMD75差速器压力发射机采用压阻式传感器和焊接金属膜，用于所有工业中液体、蒸汽和气体的连续测量。3键…

过程的温度: 28°c
压力范围: 4000, 2000 psi

．.．和专利技术的罗斯蒙特3051共平面压力发射机．超过1000万台设备的安装，这压力发射机家庭提供一体机…

过程的温度-40°c - 85°c
压力范围: 1巴- 40巴

智能微分压力发射机- KERADIFF 100 / 140 / 150型-测量功能微分压力，灌装水平和流量快速使用…

过程的温度-30°c - 200°c
压力范围: -1巴- 600巴

测量范围:-1…0 bar/ 0…600 bar，允许过载是公称跨度的4倍。对于绝对的，相对的和微分压力．带有电子元件和外壳的传感器与…