硅压力变送器

压力范围: 0 bar - 600 bar
过程的温度: -40℃~ 120℃

压力发射器卓越的超压保护(高达4倍)移动液压应用的理想选择，即使在高压力．.．

压力范围: 0 bar - 600 bar
过程的温度: -40℃~ 120℃

．.．可根据客户要求提供特定的解决方案压力发射机0710 - 0 - 10v (3-Leiter)连接:NPT 1/8 NPT 1/4 G1/4 - DIN 3852-E G1/4 9/16 - 18 UNF 7/16 - 20 UNF响应时间:< 2ms突发…

压力范围: 0 bar - 600 bar
过程的温度: -40℃~ 120℃

压力发射器卓越的超压保护(高达4倍)移动液压应用的理想选择，即使在高压力．.．

压力范围: 0 bar - 30 bar
过程的温度: -50℃- 1000℃

系列M8coolHB压力发射器，具有0…50 kHz的动态范围和M8压力连接，都是优化的动态(即快速压力脉动……

压力范围: 0 bar - 30 bar
过程的温度: -10℃~ 80℃

微分压力发射器的PD-33X系列适用于“湿/湿”应用。他们只有一个硅隔膜在他们的内部，这是由压力…

压力范围: 0 bar - 20 bar
过程的温度: -40℃- 100℃

．.．微分压力发射器PD-23系列为工业应用而设计，标准配置G1/4内螺纹。它们是基于一个完全模拟电路。…

压力范围: 0 bar - 60 bar
过程的温度: -40℃- 125℃

的压力发射机当介质与不锈钢1.4404 (316 L)或1.4435 (316 L)兼容时，DMP 331可用于所有工业领域。

压力范围: 1巴- 20巴
过程的温度: -40℃- 100℃

．.．微分压力发射机DPT 200是专门为过程工业设计的，可用于封闭、加压罐、泵或过滤器控制等的液位测量。…

压力范围: 0 bar - 1 bar
过程的温度: -40℃- 125℃

的压力发射机dmp343是专门为测量极低量程而设计的压力真空应用。允许的介质是无腐蚀性的干气体…

．.．流体静力学的压力液位传感器可用于腐蚀性和非腐蚀性液体以及对大气封闭或开放的罐的所有测量。微分压力传感器被使用…

压力范围: 1 mbar - 50万mbar
精度: 0.04%
长期稳定: 0.1%

FCX-AII VG系列压力发射器为优化设备控制提供无与伦比的性能。通过增强SIL2/3安全特性，他们测量相对，微分还是……

压力范围: 30psi - 4000psi
精度: 1,0.25%
过程的温度: -29℃~ 82℃

……。用于测量压力在许多行业的超高纯度和特种气体应用中，压力发射器传感器必须保持稳定性和准确性。这是……

压力范围: 200 Pa - 10,000,000 Pa
精度: 0.05 %
过程的温度: -40℃~ 120℃

．.．现场出现问题及时解决。LEEG 2035是一种具有成本效益的设备，可获得的测量组合微分压力,绝对压力和温度。它被广泛用于……

LEEG Mono -硅压力发射机是新一代工艺工业的代表吗压力发射器．典型应用行业…

压力范围: 0.1 bar - 30 bar
过程的温度: -40℃~ 300℃

卫生压力发射机专为食品、制药行业设计，适用于CIP/SIP清洗灭菌。智能紧凑的设计，湿件采用优质不锈钢制成…

压力范围: 20巴
过程的温度: 0℃~ 70℃

PEWA3401压力发射机迷笛采用微熔虹吸是一种有效的产品吗压力传感和特殊设计的放大电路。通过线性校正和温度补偿，…

压力范围: 0 psi - 10,000 psi
精度: 0.08, 0.05, 0.1%
过程的温度: -40℃~ 120℃

微分压力发射机采用单晶硅压力测量蒸汽、可燃气体、液体(标准和包装)的传感器技术和包装过程。

压力范围: 0 Pa - 6000 Pa
精度: 0.08%
过程的温度: -30℃~ 400℃

高稳定性单晶硅压力发射机具有标准的dp风格设计。与它的4…20 mA, 4…20 mA HART, PROFIBUS PA或基金会现场总线输出信号，…

压力范围: 0.1 Pa - 40,000,000 Pa
精度: 0.08%
过程的温度: -40℃- 125℃

单晶硅压力发射机与它的4…20 mA, 4…20 mA HART, PROFIBUS PA或FOUNDATION现场总线输出信号，结合本安或隔爆…

压力范围: 50 Pa - 10,000 Pa
精度: 2%
过程的温度: 0℃~ 50℃

【特点】●硅差速器上的芯片压力●偏置功能/ UI软件压力监测、高压力．.．

APCE - 2000ALW，由Aplisens®制造，是一个智能压力发射机它具有主动传感功能，可以通过压阻测量气体、蒸汽和液体硅．.．

APCE - 2000，由Aplisens®制造，是一个智能压力发射机具有主动传感功能，可通过压阻测量气体、蒸汽和液体硅．.．

压力范围: -1 bar - 400 bar
过程的温度: -10℃~ 85℃

．.．0.1MPa~40MPa全检测范围。SUP-P3000压力发射机通过波纹隔离膜片和填充油，将工艺介质加压到膜片压力传感器……

压力范围: 0 bar - 30 bar
过程的温度: -10℃~ 85℃

呷- 2051差压力发射机采用高性能单晶硅微分压力技术精确测量微分．.．

过程的温度: 0℃~ 60℃

．.．电源:5~ 12vdc, 5ma保护:极性，过载，短路安全:CE, FCC发射机是用小轮廓，压阻硅压力传感器封装在一个…

压力范围: - 100pa - 100pa
过程的温度: 5°c ~ 45°c

微分压力基于静态的传感器压力测量(隔膜)。适用于制药和半导体行业的高要求应用，也适用于微型环境。…

压力范围: - 50pa - 2000pa
过程的温度: 0℃~ 50℃

微分压力基于静态的传感器压力测量(隔膜)。配置和校准发射机．适用于暖通空调或洁净室应用。自动的…

压力范围: 0.69 bar
精度: 0.25、0.5%
长期稳定: 0.5%

．.．607差压力发射机结合极低的范围与卓越的稳定性，可靠性和±0.25%或±0.5%精度的最苛刻的应用。范围从0-0.1”到0-25”…

压力范围: 414 bar
精度: 0.05 %

主要产品范围-压力产品或部件类型-压力发射机测量类型-绝对互补-翻转- 400:1安装类型-直接到…

压力范围: 0 Pa - 7000 Pa
过程的温度: -30℃~ 70℃

的压力发射机699M主要用于监测空气和中性气体。该单元可选提供一个或两个差速器压力传感器，这允许…

压力范围: - 150pa - 7000 Pa
过程的温度: -10℃~ 50℃

．.．微分压力发射器用于空气DPT-R8系列差速器压力发射器是专为HVAC/R行业的楼宇自动化而设计的。最具技术含量的…

压力范围: 0 psi - 1500 psi
过程的温度: 20°c

．.．微分压力水平发射机用于防止介质直接进入压力的传感程序集压力发射机……

压力范围: - 50pa - 50pa
过程的温度: 2℃~ 57℃

微分压力发射机PDT102用于生命科学和高科技无尘室应用主要为生命科学和高科技无尘室设计的高性能仪器…

压力范围: 130毫巴- 100,000毫巴
过程的温度: -10℃~ 70℃

．.．低hystérésis•-不受污垢的影响压力•-电容型硅工作原理me71型压力发射机．.．

压力范围: 10 mbar - 400,000 mbar
精度: 0.05, 0.08%
长期稳定: 0.2%

SP900X单晶硅压力发射机是高性能的压力发射机国际领先技术精心设计…

．.．压敏电阻压力发射机PXT-K系列压力发射器是最先进的仪器…

压力范围: -1 bar - 2000 bar
过程的温度: -40℃~ 80℃

Barksdale智能发射器(BiT)， 450X系列是一个高压力、防爆紧凑发射机与HART®通信协议选项。HART®传感器可以通信…

压力范围: 0巴- 250巴
精度: 0.5、0.25%
过程的温度: -20°c ~ 60°c

最适合测量压力工业过程中的腐蚀性流体(液体和气体)。各种信号适用于不同的工业标准压力腐蚀性液体…

压力范围: 0巴- 19.6巴
过程的温度: -40℃- 85℃

T3800压力发射机是一种具有高可靠性、高稳定性和数字化输出的产品。广泛应用于气体和液体的检测压力，如水，……