双折射测量系统Exicor®DUV系列

Exicor®DUV和193 DUV系统测量深紫外波长的双折射。2003年获得“R&D 100”奖的Exicor DUV系统被开发用于评估氟化钙(CaF2)透镜材料在157 nm波长下的固有双折射。随后的Exicor 193 DUV专注于193nm光刻系统中使用的各种材料，特别是要求最高质量光学的浸入式193nm光刻系统。这两种系统都满足了精密光学材料制造商对波长使用原理的测量要求，这些制造商正在推动技术的发展。Exicor DUV和193DUV系统是领先的光刻行业光学制造商用于测量DUV光刻波长(157 nm, 193 nm, 248 nm)的透镜坯料和光掩模坯料的双折射的主要系统。这些系统配备了坚固的框架和重型运动控制组件，用于测量厚度达400mm X 400mm和200+ mm的光学器件。Exicor DUV系统还在样品室中使用了独特的局部氧置换系统，因为157 nm紫外光会被氧分子吸收。这种清洁干燥的氮气净化环境还可以防止DUV样品室中臭氧的产生。193纳米和248纳米测量不需要清洗。这些系统的大型扫描平台还允许在平台上加载多个较小的部件，可选的Exicor Macro+软件执行自动例程来逐个扫描每个部件。