光电子能谱仪jps - 9030

x射线 过程 用于精密物料搬运

jp -9030配备了新设计的用户界面，进一步提高了可操作性，还首次采用了复杂的、新的现代和光滑的外观设计。新开发的考夫曼型蚀刻离子源提供从1纳米/分钟到100纳米/分钟(SiO2当量)的蚀刻速率，并允许广泛的设置。它适用于任何应用，从要求精度的测量到要求速度的过程。考夫曼型蚀刻离子源安装到标本交换室，便于防止测量室的污染。新开发的软件提供了更大的易用性，SpecSurf Ver. 2.0现在包含了缎带风格的GUI，提供了一个用户友好的环境，在其中所有操作都可以用鼠标执行。利用JEOL自身的自动定性分析功能，可以对多个采集点进行定性、定量和化学状态分析。jp -9030支持角分辨XPS (ARXPS)和全反射XPS (TRXPS)等技术，能够对1纳米(标准测量方法为6纳米或以上)的顶部表面进行超高灵敏度分析。丰富的选项•单色x射线源•氩气团簇离子源适合有机样品•红外加热系统能够达到1000°C或更高的温度•转移容器，以保护样品不暴露于大气应用JPS-9030•UrushiNote•电池注•MALDI应用:分析有机薄膜