光学检测机CIRCL™

对于晶片 宏观缺陷

全表面晶圆缺陷检测、计量和评审集群系统CIRCL™集群工具有四个模块，覆盖所有晶圆表面，并提供高通量并行数据收集，以实现高效的过程控制。包含最新一代CIRCL5系统的模块包括:正面晶圆缺陷检测;晶圆片边缘缺陷检测、轮廓、计量及评审;背面晶圆片缺陷检查及评审;对正面缺陷进行了光学回顾和分类。数据收集由DirectedSampling™控制，这是一种创新的方法，使用一次测量的结果来触发集群内其他类型的测量。CIRCL5的模块化配置为不同的工艺控制需求提供了灵活性，节省了整个晶圆厂空间，减少了晶圆排队时间，并提供了一个具有成本效益的升级路径，以保护晶圆厂的资本投资。工艺监控，出厂质量控制，工具监控，背面监控，边缘良率监控