光测量系统紫外晶圆

紫外线 对于晶圆

原位沉积和退火紫外线测量系统紫外晶片原位紫外线（UV）光测量系统利用无线传感器晶圆技术在膜沉积过程工具中测量晶圆表面的紫外光剂量和强度。为了实现先前不可用的过程优化和监测，UV晶圆提供了有关从用于退火或固化FCVD（可流动）氧化物和低k介电膜的紫外灯的光强度的时间和空间信息。紫外线晶圆还可以鉴定灯年龄诱导的漂移或灯强度的其他变化，从而导致膜特性不均匀。通过突出显示紫外线灯子系统中的光学系统问题，UV晶圆可帮助工​​程师驱动工艺改进，从而实现最佳的固化过程。应用程序开发，过程资格，过程工具资格，过程工具监控，过程工具匹配膜沉积，紫外线固化，UV退火