光学测量系统LMS IPRO7

LMS IPRO7光栅配准计量系统旨在为7nm设计节点的EUV和光学光栅上的图案放置性能提供准确和快速的验证。LMS IPRO7提供了全面的定位误差表征，在开发和生产高级设计节点的轨迹时，可产生用于电子束掩模写入器校正和轨迹质量控制的数据。使用KLA专有的基于模型的计量算法，LMS IPRO7可以高精度地测量目标和多个器件上的图案特征的图案放置误差，从而实现表征并减少与IC晶圆厂中器件覆盖误差相关的光栅相关贡献。LMS IPRO6:用于10nm设计节点的掩模计量系统，支持对标准注册标志和器件上图案特征的测量。爱游戏ayx守望先锋LMS IPRO4:用于32nm/28nm设计节点的掩模计量系统。凭借业界独特的灵活处理能力，LMS IPRO4支持4“到8”的掩模尺寸。点击“联系我们”按钮获取有关新系统和翻新系统的更多信息。