变形机SC-CSZ8000E-16F

单晶的批处理变形设备用于纹理mono晶晶片的清洗。看到破坏去除→预清洗→Mono-texturing→清洗→清洗→酸后热水干燥→干燥(仅供参考)·吞吐量:400 pc /批,8000个人电脑/ h。·过程浴循环量可调。统一的金字塔结构,腐蚀深度可调。处理能力120μm··晶片厚度用干净干燥的区域和清洗干燥系统。免费·过氧化氢。·快速内联浴变化。与MES·可用,RFID系统,内联重量测试可选的。