真空涂料系统G4000MR

应用G4000MR真空涂料系统是一种生产规模的座舱，旨在在包括天文学主镜在内的大型光学文章上生产均匀的反射和保护涂层。坐积工艺的工程和技术配置专门为处理直径高达4米的文章而开发，而小型软件控制的磁控棒沿计算的小路径以可调节速度沿计算的路径移动。磁子运动速度和镜面旋转速度匹配以达到异常均匀的涂层厚度。镜子的面朝下定位，并在周期中旋转几次。G4000MR用于沉积铝，银和其他金属的反射涂层。反射涂层顶部的氧化硅层可确保涂层的耐药性特征。在涂层沉积之前，对镜面进行了血浆处理，并用可移动的离子源处理以确保良好的粘附。涂层用金属和反应性磁控溅射过程沉积。圆形磁控杆由脉冲-DC电源供电。根据包括石英 - 结晶谐振器的设备，用于控制生长薄膜的沉积速率。 The vacuum required for coating is ensured by refrigerator cryo-pumps and a turbo pump connected to Roots blower and dry compressing pumps. The control system ensures fully automated process. The coater and coating process can be customized to the requirements of the respective customer. Data Sheet Substrate: large-size astronomical glassceramic mirrors Substrate diameter: up to 4 m Number of substrates: 1 pc.