PVD沉积机泰坦沉积

PECVD 静电 真空

生产证明泰坦沉积是一个负载沉积系统与真空盒式提升机。可以配置为PECVD、HDCVD、PVD或ALD。泰坦沉积提供创新，领先的工艺，占地面积小，价格合理。已开发出可重复沉积SiOx、SiNx、SiC和a-Si的标准生产工艺。我们拥有超过25年的快速工艺开发经验。系统特点:PLC和触摸屏控制静电卡盘或机械卡盘有源基板温度控制真空盒式提升机可选激光和光学端点