x射线显微镜versa Xradia 510

实验室 3 d 现场

蔡司Xradia 510 Versa 3 d亚微米与灵活性突破打破1微米分辨率成像系统障碍与x射线显微镜对3 d成像和原位/ 4 d调查。使用的组合与灵活的工作距离分辨率和对比度扩展无损成像的力量在你的实验室。受益于其架构,使用两级放大技术实现亚微米分辨率在远处(RaaD)。减少依赖几何放大率维护亚微米分辨率甚至在大的工作距离。强调享受多功能性即使在大型工作距离源——从毫米到厘米。执行3 d成像软或low-Z材料与先进的吸收和创新相差达到世界领先的决议,灵活的工作距离的限制之外projection-based ct机解决submicrometer-scaled特性不同样本大小扩展原位无损成像在你的实验室/ 4 d方案调查材料类原生环境中随着时间的推移,吞吐量与图像质量